4လက်မအရွယ် SiC တစ်ပိုင်းစော်ကားသော wafers HPSI SiC အလွှာ Prime Production အဆင့်

4 လက်မအရွယ် SiC တစ်ပိုင်းစော်ကားသော wafers HPSI SiC အလွှာ Prime Production grade အသားပေးပုံ

အတိုချုံးဖော်ပြချက်-

4 လက်မအရွယ် သန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော ဆီလီကွန်ကာဗိုက် နှစ်ထပ် လျှပ်ကာအပြားကို 5G ဆက်သွယ်ရေးနှင့် အခြားနယ်ပယ်များတွင် အဓိကအားဖြင့် အသုံးပြုထားပြီး ရေဒီယိုကြိမ်နှုန်းအကွာအဝေးကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေခြင်း၊ အလွန်ရှည်လျားသော အကွာအဝေး အသိအမှတ်ပြုခြင်း၊ အနှောင့်အယှက် ဆန့်ကျင်ခြင်း၊ မြန်နှုန်းမြင့်ခြင်း စသည့် အကျိုးကျေးဇူးများဖြင့် စွမ်းရည်ကြီးမားသော သတင်းအချက်အလက် ထုတ်လွှင့်ခြင်းနှင့် အခြားအသုံးချပလီကေးရှင်းများ နှင့် မိုက်ခရိုဝေ့ဖ်ပါဝါကိရိယာများ ပြုလုပ်ရန်အတွက် စံပြအလွှာအဖြစ် သတ်မှတ်သည်။

ကျွန်ုပ်တို့ထံ အီးမေးလ်ပို့ပါ။

ထုတ်ကုန်အသေးစိတ်

ထုတ်ကုန်အမှတ်အသား

ကုန်ပစ္စည်းသတ်မှတ်ချက်

ဆီလီကွန်ကာဗိုက် (SiC) သည် ကာဗွန်နှင့် ဆီလီကွန်ဒြပ်စင်များဖြင့် ဖွဲ့စည်းထားသည့် ဒြပ်ပေါင်းတစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းဖြစ်ပြီး အပူချိန်မြင့်၊ ကြိမ်နှုန်းမြင့်၊ ပါဝါနှင့် ဗို့အားမြင့်စက်ပစ္စည်းများပြုလုပ်ရန်အတွက် စံပြပစ္စည်းများထဲမှတစ်ခုဖြစ်သည်။ရိုးရာဆီလီကွန်ပစ္စည်း (Si) နှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက၊ ဆီလီကွန်ကာဗိုက်၏ တားမြစ်ထားသော တီးဝိုင်းအကျယ်သည် ဆီလီကွန်ထက် သုံးဆ၊အပူစီးကူးမှုသည် ဆီလီကွန်ထက် 4-5 ဆ၊ပြိုကွဲဗို့အားသည် ဆီလီကွန်ထက် ၈-၁၀ ဆ၊နှင့် အီလက်ထရွန် ရွှဲပျံမှုနှုန်းသည် ဆီလီကွန်ထက် 2-3 ဆ ရှိပြီး ပါဝါမြင့်သော၊ ဗို့အားမြင့် နှင့် ကြိမ်နှုန်းမြင့်ရန်အတွက် ခေတ်မီစက်မှုလုပ်ငန်း၏ လိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီသည့် ဆီလီကွန်ထက် 2-3 ဆ ရှိပြီး ၎င်းကို အဓိကအားဖြင့် မြန်နှုန်းမြင့်၊ ကြိမ်နှုန်း၊ ပါဝါမြင့်ပြီး အလင်းထုတ်လွှတ်သော အီလက်ထရွန်နစ် အစိတ်အပိုင်းများနှင့် ၎င်း၏ အောက်ပိုင်း အပလီကေးရှင်း ဧရိယာများတွင် စမတ်ဂရစ်၊ စွမ်းအင်သစ်ယာဉ်များ၊ photovoltaic လေစွမ်းအင်၊ 5G ဆက်သွယ်ရေး စသည်တို့ ပါဝင်ပါသည်။ ဓာတ်အားပေးစက်များနယ်ပယ်တွင် ဆီလီကွန်ကာဘိုင်ဒိုင်အိုဒနှင့် MOSFET များသည် စတင်အသုံးပြုလာကြသည်။ စီးပွားရေးအရ အသုံးချသည်။

SiC wafers/SiC substrate ၏ အားသာချက်များ

မြင့်မားသောအပူချိန်ခုခံ။silicon carbide ၏ တားမြစ်ထားသော band width သည် silicon ၏ 2-3 ဆ ဖြစ်သောကြောင့် electrons သည် မြင့်မားသော အပူချိန်တွင် ခုန်နိုင်ခြေနည်းပြီး လည်ပတ်မှု မြင့်မားသော အပူချိန်ကို ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး silicon carbide ၏ thermal conductivity သည် silicon ထက် 4-5 ဆ၊ ၎င်းသည် ကိရိယာမှ အပူကို စုပ်ယူရန် ပိုမိုလွယ်ကူစေပြီး ပိုမိုမြင့်မားသော လည်ပတ်မှုအပူချိန်ကို ကန့်သတ်ပေးသည်။အပူချိန်မြင့်မားသောလက္ခဏာများသည် ပါဝါသိပ်သည်းဆကို သိသာထင်ရှားစွာ တိုးမြင့်စေနိုင်ပြီး အပူပျံ့နှံ့မှုစနစ်အတွက် လိုအပ်ချက်များကို လျှော့ချပေးကာ terminal ကို ပိုမိုပေါ့ပါးပြီး သေးငယ်သွားစေသည်။

မြင့်မားသောဗို့အားခုခံ။ဆီလီကွန်ကာဗိုက်၏ပြိုကွဲမှုအကွက်အား ခိုင်ခံ့မှုသည် ဆီလီကွန်ထက် 10 ဆ ပိုမိုမြင့်မားသော ဗို့အားများကို ခံနိုင်ရည်ရှိစေပြီး ဗို့အားမြင့်ကိရိယာများအတွက် ပိုမိုသင့်လျော်စေသည်။

မြင့်မားသောကြိမ်နှုန်းခုခံ။ဆီလီကွန်ကာဗိုက်သည် ဆီလီကွန်၏ ရွှဲအီလက်ထရွန်ပျံနှုန်းထက် နှစ်ဆရှိပြီး၊ ၎င်းသည် ၎င်း၏စက်များကို ပိတ်သိမ်းခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်တွင် လက်ရှိဆွဲယူခြင်းဖြစ်စဉ်တွင် မရှိသည့်အတွက်၊ စက်ပစ္စည်း၏သေးငယ်သောအချိုးအစားကိုရရှိရန် စက်ပစ္စည်း၏သေးငယ်သောပြောင်းလဲမှုနှုန်းကို ထိရောက်စွာတိုးတက်စေနိုင်သည်။

စွမ်းအင်ဆုံးရှုံးမှုနည်းပါးခြင်း။ဆီလီကွန်ကာဗိုက်သည် ဆီလီကွန်ပစ္စည်းများနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက ခံနိုင်ရည် အလွန်နည်းပါးပြီး၊တစ်ချိန်တည်းမှာပင်၊ ဆီလီကွန်ကာဗိုက်၏မြင့်မားသော bandwidth သည် ယိုစိမ့်သောလက်ရှိ၊ ပါဝါဆုံးရှုံးမှုကို သိသိသာသာလျော့နည်းစေသည်။ထို့အပြင်၊ ပိတ်သိမ်းခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်တွင် ဆီလီကွန်ကာဘိုင် စက်ပစ္စည်းများသည် လက်ရှိဆွဲယူခြင်းဖြစ်စဉ်တွင် တည်ရှိခြင်းမရှိပါ၊ ကူးပြောင်းခြင်းဆုံးရှုံးမှုနည်းပါးပါသည်။