ပရီမီယံ Sapphire Lift Pins တစ်ခုတည်းသော crystal Al₂O₃ Wafer ဓာတ်လှေကားပင်

အတိုချုံးဖော်ပြချက်-

Sapphire Lift Pins များသည် ခေတ်မီအသေးစားနည်းပညာများ၏ တိကျသောလိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းရန်အတွက် အလွန်မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သောတစ်ခုတည်းသောသလင်းကျောက်နီလာ (Al₂O₃) မှ တီထွင်ဖန်တီးထားသော တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းလုပ်ဆောင်ခြင်းအစိတ်အပိုင်းများတွင် အရေးပါသောတိုးတက်မှုကိုကိုယ်စားပြုသည်။ ဤတိကျသောအစိတ်အပိုင်းများသည် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်း၊ LED epitaxial ကြီးထွားမှုစနစ်များနှင့် အဆင့်မြင့် wafer လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် မရှိမဖြစ်လိုအပ်လာပါသည်။ ဓာတုနီလာ၏ ထူးခြားသောပုံဆောင်ခဲဖွဲ့စည်းပုံသည် အခက်ခဲဆုံးသော လုပ်ငန်းလည်ပတ်မှုပတ်ဝန်းကျင်တွင် ဤဓာတ်လှေကားပင်များကို သမားရိုးကျရွေးချယ်စရာများကို ပိုမိုကောင်းမွန်အောင်လုပ်ဆောင်နိုင်သည့် ထူးကဲသောပစ္စည်းဂုဏ်သတ္တိများကို ပေးစွမ်းသည်။ ၎င်းတို့၏ ခြွင်းချက်ဖြစ်သော အပူတည်ငြိမ်မှုသည် ပြင်းထန်သော အပူချိန် gradients များတစ်လျှောက် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ သမာဓိကို ထိန်းသိမ်းထားပြီး ၎င်းတို့၏ မွေးရာပါ ဓာတု ခံနိုင်ရည်သည် ပြင်းထန်သော လုပ်ငန်းစဉ် ဓာတုဗေဒများနှင့် ထိတွေ့သောအခါ တစ်သမတ်တည်း စွမ်းဆောင်နိုင်မှုကို သေချာစေသည်။ ဤအင်္ဂါရပ်များ ပေါင်းစပ်ထားသော Sapphire Lift Pins သည် နာနိုမီတာအဆင့် တိကျမှု၊ ညစ်ညမ်းမှု ထိန်းချုပ်မှုနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်ဆိုင်ရာ ယုံကြည်စိတ်ချရမှုတို့ အရေးကြီးဆုံးဖြစ်သည့် အရေးကြီးသော wafer ကိုင်တွယ်ခြင်းအပလီကေးရှင်းများအတွက် ဦးစားပေးဖြေရှင်းချက်ဖြစ်လာစေသည်။


ထုတ်ကုန်အသေးစိတ်

ကုန်ပစ္စည်း တံဆိပ်များ

နည်းပညာဆိုင်ရာ ကန့်သတ်ချက်များ

ဓာတုဖွဲ့စည်းမှု Al2O3
မာကျောခြင်း။ 9Mohs
အမြင်အာရုံ Uniaxial
အလင်းယပ်ညွှန်းကိန်း ၁.၇၆၂-၁.၇၇၀
Birefringence ၀.၀၀၈-၀.၀၁၀
ပျံ့လွင့်ခြင်း။ အနိမ့်၊ ၀.၀၁၈
တောက်လျှောက် ပျားရည်
Pleochroism အလယ်အလတ်မှ အားကောင်းသည်။
လုံးပတ် 0.4mm-30mm
အချင်းသည်းခံမှု 0.004mm-0.05mm
အရှည် 2mm-150mm
အရှည်သည်းခံမှု 0.03mm-0.25mm
မျက်နှာပြင်အရည်အသွေး ၄၀/၂၀
မျက်နှာပြင်ဝိုင်းခြင်း။ RZ0.05
စိတ်ကြိုက်ပုံသဏ္ဍာန် အစွန်းနှစ်ဖက်လုံး ပြား၊ တစ်စွန်းတစ်စ နီယပ်စ်၊
ကုန်းနှီးတံများနှင့် အထူးပုံစံများ

အဓိကအင်္ဂါရပ်များ

1.Exceptional Hardness & Wear Resistance- စိန်ပြီးလျှင် ဒုတိယမြောက် Mohs မာကျောမှုအဆင့်သတ်မှတ်ချက် 9 ဖြင့် Sapphire Lift Pins သည် ရိုးရာဆီလီကွန်ကာဗိုက်၊ အလူမီနာ ကြွေထည် သို့မဟုတ် သတ္တုသတ္တုစပ်အစားထိုးပစ္စည်းများကို သိသိသာသာ သာလွန်ကောင်းမွန်သည့် ဝတ်ဆင်မှုလက္ခဏာများကို ပြသသည်။ ဤပြင်းထန်သော မာကျောမှု သည် နှိုင်းယှဉ်နိုင်သော အပလီကေးရှင်းများတွင် သမားရိုးကျ ပစ္စည်းများထက် 3-5 ဆ ပိုရှည်သဖြင့် ဝန်ဆောင်မှု သက်တမ်းသည် ပုံမှန်အားဖြင့် အမှုန်အမွှားများ ထုတ်လုပ်မှုနှင့် ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှု လိုအပ်ချက်များကို သိသိသာသာ လျှော့ချပေးပါသည်။

2.Superior High-Temperature Resistance- ပျက်စီးခြင်းမရှိဘဲ 1000°C ထက်ကျော်လွန်သော အပူချိန်တွင် စဉ်ဆက်မပြတ်လည်ပတ်မှုကို ခံနိုင်ရည်ရှိစေရန် အင်ဂျင်နီယာချုပ်ဖြင့် ပြုလုပ်ထားသော Sapphire Lift Pins များသည် အလိုအပ်ဆုံးသော အပူပေးလုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အတိုင်းအတာတည်ငြိမ်မှုနှင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ခွန်အားကို ထိန်းသိမ်းထားပါသည်။ ၎င်းသည် ၎င်းတို့အား ဓာတုအခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်း (CVD)၊ သတ္တု-အော်ဂဲနစ် ဓာတုအခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်း (MOCVD) နှင့် အပူချဲ့ထွင်မှုမညီဘဲ လုပ်ငန်းစဉ်အထွက်နှုန်းကို အလျှော့အတင်းလုပ်နိုင်သည့် အပူချိန်မြင့်သည့် လောင်စာစနစ်များကဲ့သို့သော အရေးကြီးသောအသုံးအဆောင်များအတွက် အထူးတန်ဖိုးရှိစေသည်။

3.Chemical Inertness- တစ်ခုတည်းသော သလင်းကျောက်နီလာဖွဲ့စည်းပုံသည် HF အက်ဆစ်၊ ကလိုရင်းအခြေခံ ဓာတုဗေဒပစ္စည်းများနှင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်ရာတွင် ကြုံတွေ့ရလေ့ရှိသော အခြားပြင်းထန်သော ဓာတ်ငွေ့များမှ တိုက်ခိုက်ရန် ထူးထူးခြားခြား ခုခံမှုကို ပြသသည်။ ဤဓာတုတည်ငြိမ်မှုသည် ပလာစမာပတ်ဝန်းကျင်တွင် တသမတ်တည်းလုပ်ဆောင်မှုကိုသေချာစေပြီး wafer ညစ်ညမ်းမှုကိုဖြစ်ပေါ်စေနိုင်သည့် မျက်နှာပြင်ချို့ယွင်းမှုများဖြစ်ပေါ်ခြင်းကို ကာကွယ်ပေးသည်။

4.Low Particle Contamination- အပြစ်အနာအဆာကင်းသော၊ သန့်စင်မြင့်မားသော နီလာပုံဆောင်ခဲများ (ပုံမှန်အားဖြင့် >99.99%) ဖြင့် ထုတ်လုပ်ထားသောကြောင့် ဤဓာတ်လှေကားတံများကို သက်တမ်းရှည်အသုံးပြုပြီးနောက်တွင်ပင် အမှုန်အမွှားများ ကြွေကျခြင်းကို ထင်ရှားစေသည်။ ၎င်းတို့၏ ပေါက်ရောက်ခြင်းမရှိသော မျက်နှာပြင်ဖွဲ့စည်းပုံနှင့် ပွတ်တိုက်မှုတို့သည် အလွန်တင်းကြပ်သော cleanroom လိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီပြီး အဆင့်မြင့် node semiconductor ထုတ်လုပ်မှုတွင် ပိုမိုကောင်းမွန်သော လုပ်ငန်းစဉ်အထွက်နှုန်းများကို တိုက်ရိုက်ပံ့ပိုးပေးပါသည်။

High-Precision Machining- အဆင့်မြင့်စိန်ကြိတ်ခြင်းနှင့် လေဆာလုပ်ဆောင်ခြင်းနည်းပညာများကို အသုံးပြု၍ Sapphire Lift Pins များကို sub-micron tolerances နှင့် 0.05μm Ra အောက်ရှိ မျက်နှာပြင်အချောများဖြင့် ထုတ်လုပ်နိုင်ပါသည်။ သွယ်လျသောပရိုဖိုင်များ၊ အထူးအစွန်အဖျားဖွဲ့စည်းပုံများနှင့် ပေါင်းစပ်ချိန်ညှိမှုအင်္ဂါရပ်များအပါအဝင် စိတ်ကြိုက်ဂျီဩမေတြီများကို မျိုးဆက်သစ်ထုတ်လုပ်ရေးကိရိယာများတွင် သီးခြား wafer ကိုင်တွယ်ခြင်းဆိုင်ရာစိန်ခေါ်မှုများကို ဖြေရှင်းနိုင်ရန် အင်ဂျင်နီယာချုပ်နိုင်ပါသည်။

ပင်မအပလီကေးရှင်းများ

1.Semiconductor ထုတ်လုပ်ခြင်း- Sapphire Lift Pins များသည် photolithography၊ etching, deposition, and check process များအတွင်း ယုံကြည်စိတ်ချရသော ပံ့ပိုးမှုနှင့် တိကျသော နေရာချထားမှုကို ပံ့ပိုးပေးသည့် အဆင့်မြင့် wafer processing စနစ်များတွင် အရေးကြီးသော အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။ ၎င်းတို့၏အပူနှင့်ဓာတုတည်ငြိမ်မှုသည် နာနိုမီတာစကေးများတွင် အတိုင်းအတာတည်ငြိမ်မှု မရှိမဖြစ်လိုအပ်သည့် EUV lithography ကိရိယာများနှင့် အဆင့်မြင့်ထုပ်ပိုးမှုအပလီကေးရှင်းများတွင် အထူးတန်ဖိုးရှိစေသည်။

2.LED Epitaxy (MOCVD)- ဂယ်လီီယမ်နိုက်ထရိတ် (GaN) နှင့် ဆက်စပ်ဒြပ်ပေါင်းတစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း ကြီးထွားမှုစနစ်များတွင်၊ Sapphire Lift Pins များသည် အပူချိန် 1000°C ထက်ပို၍ မကြာခဏ အပူချိန် 1000°C တွင် တည်ငြိမ်သော wafer ပံ့ပိုးမှုကို ပေးပါသည်။ နီလာအလွှာများနှင့် လိုက်ဖက်သော အပူပိုင်းချဲ့ထွင်မှုလက္ခဏာများသည် epitaxial ကြီးထွားမှုဖြစ်စဉ်အတွင်း wafer ဦးညွှတ်ခြင်းနှင့် ချော်ထွက်ခြင်းကို လျော့နည်းစေသည်။

3.Photovoltaic စက်မှုလုပ်ငန်း- စွမ်းဆောင်ရည်မြင့် ဆိုလာဆဲလ်ထုတ်လုပ်မှုသည် အပူချိန်မြင့်သော ပျံ့နှံ့မှု၊ လောင်ကျွမ်းမှုနှင့် ပါးလွှာသော ဖလင် အစစ်ခံခြင်း လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် နီလာ၏ ထူးခြားသော ဂုဏ်သတ္တိများမှ အကျိုးကျေးဇူးများ ရရှိသည်။ အစိတ်အပိုင်းများ၏ သက်တမ်းကြာရှည်မှုသည် ထုတ်လုပ်မှုကုန်ကျစရိတ်ကို တိုက်ရိုက်သက်ရောက်မှုရှိသော အစုလိုက်အပြုံလိုက် ထုတ်လုပ်မှုပတ်ဝန်းကျင်တွင် ပင်၏ဝတ်ဆင်မှုခံနိုင်ရည်သည် အထူးတန်ဖိုးရှိသည်။

4.Precision Optics & Electronics Processing- semiconductor applications များအပြင် Sapphire Lift Pins များသည် နူးညံ့သိမ်မွေ့သော optical အစိတ်အပိုင်းများ၊ MEMS စက်များနှင့် ညစ်ညမ်းမှုကင်းစင်သော လုပ်ဆောင်မှုနှင့် ခြစ်ရာများကို ကာကွယ်ရန် အရေးကြီးသည့် အထူးအလွှာများကို ကိုင်တွယ်ရာတွင် အသုံးပြုသည်ကို တွေ့ရပါသည်။ ၎င်းတို့၏လျှပ်စစ်လျှပ်ကာပစ္စည်းများ၏ဂုဏ်သတ္တိများသည် electrostatic-sensitive devices များပါ ၀ င်သောအပလီကေးရှင်းများအတွက်စံပြဖြစ်စေသည်။

XKH ၏ sapphire lift pins များအတွက် ဝန်ဆောင်မှုများ

XKH သည် Sapphire Lift Pins အတွက် ပြီးပြည့်စုံသော နည်းပညာပံ့ပိုးမှုနှင့် စိတ်ကြိုက်ဖြေရှင်းနည်းများကို ပံ့ပိုးပေးသည်-

1. စိတ်ကြိုက် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေး ဝန်ဆောင်မှုများ
· အတိုင်းအတာ၊ ဂျီဩမေတြီနှင့် မျက်နှာပြင် ကုသမှု စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ခြင်းအတွက် ပံ့ပိုးမှု
· ပစ္စည်းရွေးချယ်မှုနှင့် နည်းပညာဆိုင်ရာ ကန့်သတ်ချက်များ ပိုမိုကောင်းမွန်အောင်ပြုလုပ်ရန် အကြံပြုချက်များ
· ပူးပေါင်းထုတ်ကုန်ဒီဇိုင်းနှင့် သရုပ်ဖော်မှုစစ်ဆေးခြင်း။
2. တိကျမှု ထုတ်လုပ်မှုစွမ်းရည်
· ±1μmအတွင်းထိန်းချုပ်ထားသောသည်းခံနိုင်မှုနှင့်အတူတိကျသောစက်ယန္တရား
· mirror polishing နှင့် edge chamfering အပါအဝင် အထူးကုသမှုများ
· anti-stick coatings ကဲ့သို့သော ရွေးချယ်နိုင်သော မျက်နှာပြင် ပြုပြင်မွမ်းမံမှုဖြေရှင်းချက်
3. အရည်အသွေးအာမခံစနစ်
· ဝင်လာသော ပစ္စည်းများကို စစ်ဆေးခြင်းနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်ထိန်းချုပ်ခြင်းတို့ကို တင်းကျပ်စွာ အကောင်အထည်ဖော်ခြင်း။
· အပြည့်အ၀ အလင်းကြည့်စစ်ဆေးခြင်းနှင့် မျက်နှာပြင်ပုံသဏ္ဍာန်ခွဲခြမ်းစိတ်ဖြာခြင်း။
· ထုတ်ကုန်စွမ်းဆောင်ရည်စမ်းသပ်မှုအစီရင်ခံစာများ ပံ့ပိုးပေးခြင်း
4. Supply Chain ဝန်ဆောင်မှုများ
· စံချိန်မီထုတ်ကုန်များကို လျင်မြန်စွာပေးပို့ခြင်း။
· အဓိကအကောင့်များအတွက် အထူးစာရင်းအင်းစီမံခန့်ခွဲမှု
5. နည်းပညာပံ့ပိုးမှု
·လျှောက်လွှာဖြေရှင်းချက်အကြံပေး
· အရောင်းပြီးနောက် တုံ့ပြန်မှုကို နှိုးဆော်ပါ။
ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ၊ LED နှင့် အခြားအဆင့်မြင့်စက်မှုလုပ်ငန်းများ၏ တင်းကြပ်သောလိုအပ်ချက်များနှင့် ပြည့်မီရန် အရည်အသွေးမြင့် Sapphire Lift Pins ထုတ်ကုန်များနှင့် ပရော်ဖက်ရှင်နယ်နည်းပညာဝန်ဆောင်မှုများကို ပေးအပ်ရန် ကျွန်ုပ်တို့ကတိပြုပါသည်။

နီလာလျှပ်တံ ၁
Sapphire lift pins ၄