Ni Substrate/wafer တစ်ခုတည်းသော ပုံဆောင်ခဲ ကုဗဖွဲ့စည်းပုံ a=3.25A သိပ်သည်းဆ 8.91

<100>၊ <110> နှင့် <111> ကဲ့သို့သော Ni အလွှာများ၏ ပုံဆောင်ခဲပုံစံ တိမ်းညွှတ်မှုများသည် ပစ္စည်း၏ မျက်နှာပြင်နှင့် အပြန်အလှန် ဆက်သွယ်မှု ဂုဏ်သတ္တိများကို ဆုံးဖြတ်ရာတွင် အရေးပါသော အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။ ဤလမ်းကြောင်းများသည် epitaxial အလွှာများ၏ တိကျသောကြီးထွားမှုကို ပံ့ပိုးပေးသည့် မတူညီသော ပါးလွှာသော ဖလင်ပစ္စည်းများဖြင့် ရာဇမတ်ကွက်များ လိုက်ဖက်သည့် စွမ်းရည်များကို ပေးဆောင်သည်။ ထို့အပြင်၊ နီကယ်၏ ချေးခံနိုင်ရည်သည် အာကာသ၊ အဏ္ဏဝါနှင့် ဓာတုဗေဒ လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အသုံးပြုရန်အတွက် အကျိုးပြုသည့် ကြမ်းတမ်းသော ပတ်ဝန်းကျင်တွင် တာရှည်ခံစေသည်။ ၎င်း၏စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ခွန်အားသည် Ni အရေပြားအောက်လွှာများသည် ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ ပြုပြင်ခြင်းနှင့် စမ်းသပ်ခြင်းများ၏ ပြင်းထန်မှုကို မပျက်စီးစေဘဲ ခံနိုင်ရည်ရှိစေပြီး ပါးလွှာသောဖလင်များ စုဆောင်းခြင်းနှင့် အပေါ်ယံနည်းပညာများအတွက် တည်ငြိမ်သောအခြေခံကို ပံ့ပိုးပေးပါသည်။ အပူ၊ လျှပ်စစ်နှင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဂုဏ်သတ္တိများ ပေါင်းစပ်ထားသော ဤအရာသည် နာနိုနည်းပညာ၊ မျက်နှာပြင်သိပ္ပံနှင့် အီလက်ထရွန်နစ်ပစ္စည်းတို့တွင် အဆင့်မြင့် သုတေသနပြုရန်အတွက် Ni အလွှာများကို မရှိမဖြစ်လိုအပ်စေသည်။
နီကယ်၏အင်္ဂါရပ်များသည် 48-55 HRC ကဲ့သို့ မာကျောနိုင်သည့် မြင့်မားသော မာကျောမှုနှင့် အစွမ်းသတ္တိများ ပါဝင်နိုင်သည်။ အထူးသဖြင့် အက်ဆစ်နှင့် အယ်လကာလီနှင့် အခြားသော ဓာတုမီဒီယာများသို့ ကောင်းမွန်သော ချေးစားမှုဒဏ်ကို ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး အလွန်ကောင်းမွန်ပါသည်။ ကောင်းသောလျှပ်စစ်စီးကူးမှုနှင့် သံလိုက်ဓာတ်သည် လျှပ်စစ်သံလိုက်သတ္တုစပ်များထုတ်လုပ်ခြင်း၏ အဓိကအစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။
နီကယ်ကို အီလက်ထရွန်နစ် အစိတ်အပိုင်းများအတွက် လျှပ်ကူးပစ္စည်းအဖြစ် နှင့် ထိတွေ့ပစ္စည်းအဖြစ် နယ်ပယ်များစွာတွင် အသုံးပြုနိုင်သည်။ ဘက်ထရီများ၊ မော်တာများ၊ ထရန်စဖော်မာများနှင့် အခြားလျှပ်စစ်သံလိုက်ပစ္စည်းများ ထုတ်လုပ်ရန် အသုံးပြုသည်။ အီလက်ထရွန်းနစ် ချိတ်ဆက်ကိရိယာများ၊ သွယ်တန်းထားသော လိုင်းများနှင့် အခြားသော လျှပ်စစ်စနစ်များတွင် အသုံးပြုသည်။ ဓာတုပစ္စည်းကိရိယာများ၊ ကွန်တိန်နာများ၊ ပိုက်လိုင်းများ စသည်တို့အတွက် ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံဆိုင်ရာပစ္စည်းအဖြစ်၊ မြင့်မားသော corrosion resistance လိုအပ်ချက်များဖြင့် ဓာတုတုံ့ပြန်မှုပစ္စည်းများကို ထုတ်လုပ်ရန်အသုံးပြုသည်။ ဆေးဝါး၊ ရေနံဓာတုနှင့် အခြားပစ္စည်းများ၏ ချေးခံနိုင်ရည်ကို တင်းကြပ်စွာ လိုအပ်သည့်နေရာများတွင် အသုံးပြုသည်။

နီကယ် (Ni) အလွှာများသည် ၎င်းတို့၏ စွယ်စုံရ ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ၊ ဓာတုဗေဒနှင့် ပုံဆောင်ခဲများ၏ ဂုဏ်သတ္တိများကြောင့် သိပ္ပံနည်းကျနှင့် စက်မှုနယ်ပယ်အမျိုးမျိုးတွင် အသုံးချပရိုဂရမ်များစွာကို တွေ့ရှိရသည်။ အောက်ဖော်ပြပါများသည် Ni အလွှာများ၏ အဓိကအသုံးပြုမှုအချို့ဖြစ်သည်- နီကယ်အလွှာများကို ပါးလွှာသောဖလင်များနှင့် epitaxial အလွှာများ အပ်နှံရာတွင် ကျယ်ပြန့်စွာအသုံးပြုကြသည်။ <100>၊ <110> နှင့် <111> ကဲ့သို့သော Ni အလွှာများ၏ ပုံဆောင်ခဲပုံသဏ္ဍာန် တိမ်းညွှတ်မှုများသည် ပါးလွှာသော ဖလင်များ၏ တိကျသော ကြီးထွားမှုကို ထိန်းချုပ်နိုင်စေသည့် ရာဇမတ်ကွက်များကို အမျိုးမျိုးသော ပစ္စည်းများနှင့် ကိုက်ညီမှုပေးသည်။ အီလက်ထရွန်လှည့်ဖျားခြင်းကို ထိန်းချုပ်ခြင်းသည် စက်ပစ္စည်းစွမ်းဆောင်ရည်တိုးတက်စေရန် အဓိကသော့ချက်ဖြစ်သည့် သံလိုက်သိုလှောင်မှုကိရိယာများ၊ အာရုံခံကိရိယာများနှင့် spintronic စက်ပစ္စည်းများ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးတွင် Ni အလွှာကို မကြာခဏအသုံးပြုပါသည်။ နီကယ်သည် ရေပိုင်းခြားခြင်းနှင့် လောင်စာဆဲလ်နည်းပညာတွင် အရေးပါသော ဟိုက်ဒရိုဂျင်ဆင့်ကဲတုံ့ပြန်မှု (HER) နှင့် အောက်ဆီဂျင်ဆင့်ကဲတုံ့ပြန်မှု (OER) အတွက် အလွန်ကောင်းမွန်သော ဓာတ်ကူပစ္စည်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ Ni substrates များကို ဤအပလီကေးရှင်းများတွင် ဓာတ်လိုက်အလွှာအတွက် အထောက်အကူပစ္စည်းများအဖြစ် အသုံးပြုကြပြီး ထိရောက်သော စွမ်းအင်ပြောင်းလဲခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များကို ပံ့ပိုးပေးပါသည်။
Ni Single crystal substrate ၏ အမျိုးမျိုးသော သတ်မှတ်ချက်များ၊ အထူများနှင့် ပုံသဏ္ဍာန်များကို ဖောက်သည်များ၏ လိုအပ်ချက်အရ စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်နိုင်ပါသည်။