Ni အလွှာ/ဝေဖာ တစ်ခုတည်းသော ပုံဆောင်ခဲ ကုဗဖွဲ့စည်းပုံ a=3.25A သိပ်သည်းဆ 8.91

Ni အလွှာ/wafer single crystal cubic structure a=3.25A သိပ်သည်းဆ 8.91 Featured Image

အကျဉ်းချုပ်ဖော်ပြချက်:

နီကယ် (Ni) အောက်ခံများ၊ အထူးသဖြင့် နီကယ်ဝေဖာပုံစံဖြင့် ၎င်းတို့၏ စွယ်စုံရဂုဏ်သတ္တိများကြောင့် ပစ္စည်းသိပ္ပံနှင့် အီလက်ထရွန်းနစ်သုတေသနတွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုကြသည်။ 5x5x0.5 mm၊ 10x10x1 mm နှင့် 20x20x0.5 mm အတိုင်းအတာများဖြင့် ရရှိနိုင်သော ဤအောက်ခံများကို <100>၊ <110> နှင့် <111> ကဲ့သို့သော အဓိက ပုံဆောင်ခဲမျက်နှာပြင်များတစ်လျှောက်တွင် ဦးတည်ထားသည်။ ဤဦးတည်ချက်များသည် ပါးလွှာသောအလွှာစုပုံခြင်း၊ epitaxial ကြီးထွားမှုနှင့် မျက်နှာပြင်လေ့လာမှုများကို လွှမ်းမိုးရာတွင် အရေးကြီးပါသည်၊ အဘယ်ကြောင့်ဆိုသော် ၎င်းတို့သည် မတူညီသောပစ္စည်းများနှင့် တိကျသော lattice matching ကို ခွင့်ပြုသောကြောင့်ဖြစ်သည်။ နီကယ်အောက်ခံများကို ၎င်းတို့၏ အလွန်ကောင်းမွန်သော အပူနှင့် လျှပ်စစ်စီးကူးမှုကြောင့် catalysis၊ သံလိုက်ပစ္စည်းများနှင့် superconductor များပါဝင်သည့် အသုံးချမှုများတွင် အများအားဖြင့် အသုံးပြုကြသည်။ ၎င်းတို့၏ မြင့်မားသော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာအစွမ်းသတ္တိနှင့် ချေးခြင်းကို ခံနိုင်ရည်ရှိမှုတို့သည် အဆင့်မြင့်အလွှာနည်းပညာများ၊ အာရုံခံကိရိယာဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုနှင့် နာနိုအီလက်ထရွန်းနစ်များအတွက်လည်း သင့်လျော်စေသည်။ ပုံဆောင်ခဲတိကျမှု၊ အတိုင်းအတာပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ်ရှိမှုနှင့် အရည်အသွေးမြင့်နီကယ်ပစ္စည်းတို့၏ ပေါင်းစပ်မှုသည် ဤအောက်ခံများသည် စမ်းသပ်မှုနှင့် စက်မှုလုပ်ငန်းဆိုင်ရာအသုံးချမှုများတွင် အကောင်းဆုံးစွမ်းဆောင်ရည်ကို ပေးစွမ်းနိုင်ကြောင်း သေချာစေသည်။ ကျယ်ပြန့်သော အလွှာပါးများနှင့် အပေါ်ယံလွှာများကို ပံ့ပိုးပေးနိုင်စွမ်းဖြင့် Ni အောက်ခံများသည် မတူညီသော အဆင့်မြင့်နည်းပညာနယ်ပယ်များတွင် ပစ္စည်းအသစ်များနှင့် စက်ပစ္စည်းများ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုအတွက် မရှိမဖြစ်လိုအပ်ပါသည်။

ကျွန်ုပ်တို့ထံ အီးမေးလ်ပို့ပါ

အင်္ဂါရပ်များ

သတ်မှတ်ချက်

<100>၊ <110> နှင့် <111> ကဲ့သို့သော Ni အောက်ခံများ၏ ပုံဆောင်ခဲ ဦးတည်ချက်များသည် ပစ္စည်း၏ မျက်နှာပြင်နှင့် အပြန်အလှန် ဆက်သွယ်မှု ဂုဏ်သတ္တိများကို ဆုံးဖြတ်ရာတွင် အရေးပါသော အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်သည်။ ဤ ဦးတည်ချက်များသည် မတူညီသော အလွှာပါးပစ္စည်းများနှင့် ကွက်တိကိုက်ညီမှု စွမ်းရည်များကို ပေးစွမ်းပြီး epitaxial အလွှာများ၏ တိကျသော ကြီးထွားမှုကို ပံ့ပိုးပေးသည်။ ထို့အပြင်၊ နီကယ်၏ ချေးခံနိုင်ရည်ရှိမှုကြောင့် ကြမ်းတမ်းသောပတ်ဝန်းကျင်များတွင် တာရှည်ခံပြီး အာကာသ၊ ရေကြောင်းနှင့် ဓာတုဗေဒဆိုင်ရာ လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အသုံးချမှုများအတွက် အကျိုးရှိသည်။ ၎င်း၏ စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ခိုင်ခံ့မှုသည် Ni အောက်ခံများသည် ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ လုပ်ငန်းစဉ်နှင့် စမ်းသပ်မှုများ၏ ပြင်းထန်မှုကို ယိုယွင်းပျက်စီးခြင်းမရှိဘဲ ခံနိုင်ရည်ရှိကြောင်း ထပ်မံသေချာစေပြီး အလွှာပါး စုပုံခြင်းနှင့် အပေါ်ယံလွှာ နည်းပညာများအတွက် တည်ငြိမ်သော အခြေခံကို ပေးစွမ်းသည်။ အပူ၊ လျှပ်စစ်နှင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဂုဏ်သတ္တိများ ပေါင်းစပ်မှုသည် နာနိုနည်းပညာ၊ မျက်နှာပြင်သိပ္ပံနှင့် အီလက်ထရွန်းနစ်တို့တွင် အဆင့်မြင့်သုတေသနအတွက် Ni အောက်ခံများ မရှိမဖြစ်လိုအပ်စေသည်။
နီကယ်၏ ဝိသေသလက္ခဏာများတွင် မာကျောမှုနှင့် ခိုင်ခံ့မှုမြင့်မားခြင်း ပါဝင်နိုင်ပြီး ၎င်းသည် HRC ၄၈-၅၅ အထိ မာကျောနိုင်သည်။ အက်ဆစ်နှင့် အယ်ကာလီနှင့် အခြားဓာတုပစ္စည်းများကို ခံနိုင်ရည်ကောင်းမွန်ပြီး ချေးခြင်းကို အထူးကောင်းမွန်စွာ ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။ လျှပ်စစ်စီးကူးနိုင်စွမ်းနှင့် သံလိုက်အားကောင်းမွန်ခြင်းသည် လျှပ်စစ်သံလိုက်သတ္တုစပ်များ ထုတ်လုပ်ရာတွင် အဓိကအစိတ်အပိုင်းများထဲမှ တစ်ခုဖြစ်သည်။
နီကယ်ကို အီလက်ထရွန်းနစ် အစိတ်အပိုင်းများအတွက် လျှပ်ကူးပစ္စည်းအဖြစ်နှင့် ထိတွေ့ပစ္စည်းအဖြစ် နယ်ပယ်များစွာတွင် အသုံးပြုနိုင်ပါသည်။ ဘက်ထရီများ၊ မော်တာများ၊ ထရန်စဖော်မာများနှင့် အခြားလျှပ်စစ်သံလိုက် ပစ္စည်းကိရိယာများ ထုတ်လုပ်ရာတွင် အသုံးပြုပါသည်။ အီလက်ထရွန်းနစ် ချိတ်ဆက်ကိရိယာများ၊ ဂီယာလိုင်းများနှင့် အခြားလျှပ်စစ်စနစ်များတွင် အသုံးပြုပါသည်။ ဓာတုပစ္စည်းကိရိယာများ၊ ကွန်တိန်နာများ၊ ပိုက်လိုင်းများ စသည်တို့အတွက် ဖွဲ့စည်းပုံပစ္စည်းအဖြစ် အသုံးပြုပါသည်။ ချေးခံနိုင်ရည် မြင့်မားသော ဓာတုဓာတ်ပြုပစ္စည်းများ ထုတ်လုပ်ရာတွင် အသုံးပြုပါသည်။ ၎င်းကို ဆေးဝါး၊ ရေနံဓာတုဗေဒနှင့် ပစ္စည်းများ၏ ချေးခံနိုင်ရည် တင်းကြပ်စွာ လိုအပ်သော အခြားနယ်ပယ်များတွင် အသုံးပြုပါသည်။

နီကယ် (Ni) အောက်ခံများသည် ၎င်းတို့၏ စွယ်စုံရ ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ၊ ဓာတုဗေဒနှင့် ပုံဆောင်ခဲဂုဏ်သတ္တိများကြောင့် သိပ္ပံနှင့် စက်မှုလုပ်ငန်းနယ်ပယ်အမျိုးမျိုးတွင် အသုံးချမှုများစွာကို တွေ့ရှိရသည်။ အောက်တွင် Ni အောက်ခံများ၏ အဓိကအသုံးချမှုအချို့မှာ- နီကယ်အောက်ခံများကို အလွှာပါးများနှင့် epitaxial အလွှာများ စုပုံခြင်းတွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့် အသုံးပြုကြသည်။ <100>၊ <110> နှင့် <111> ကဲ့သို့သော Ni အောက်ခံများ၏ သီးခြား ပုံဆောင်ခဲ ဦးတည်ချက်များသည် ပစ္စည်းအမျိုးမျိုးနှင့် ကွက်တိကိုက်ညီမှုကို ပေးစွမ်းပြီး အလွှာပါးများ၏ တိကျပြီး ထိန်းချုပ်ထားသော ကြီးထွားမှုကို ခွင့်ပြုသည်။ Ni အောက်ခံများကို သံလိုက်သိုလှောင်ကိရိယာများ၊ အာရုံခံကိရိယာများနှင့် spintronic ကိရိယာများ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးတွင် မကြာခဏ အသုံးပြုလေ့ရှိပြီး အီလက်ထရွန်လှည့်ပတ်မှုကို ထိန်းချုပ်ခြင်းသည် စက်ပစ္စည်းစွမ်းဆောင်ရည်ကို တိုးတက်စေရန် အဓိကသော့ချက်ဖြစ်သည်။ နီကယ်သည် ရေခွဲခြင်းနှင့် လောင်စာဆဲလ်နည်းပညာတွင် အရေးပါသော ဟိုက်ဒရိုဂျင်ဆင့်ကဲပြောင်းလဲမှုတုံ့ပြန်မှု (HER) နှင့် အောက်ဆီဂျင်ဆင့်ကဲပြောင်းလဲမှုတုံ့ပြန်မှု (OER) အတွက် အလွန်ကောင်းမွန်သော ဓာတ်ကူပစ္စည်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ Ni အောက်ခံများကို ဤအသုံးချမှုများတွင် ဓာတ်ကူပစ္စည်းများအဖြစ် မကြာခဏ အသုံးပြုလေ့ရှိပြီး ထိရောက်သော စွမ်းအင်ပြောင်းလဲမှုလုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အထောက်အကူပြုသည်။
ကျွန်ုပ်တို့သည် ဖောက်သည်များ၏ သီးခြားလိုအပ်ချက်များအရ Ni Single crystal substrate ၏ သတ်မှတ်ချက်များ၊ အထူနှင့် ပုံသဏ္ဍာန်အမျိုးမျိုးကို စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်နိုင်ပါသည်။

အသေးစိတ်ပုံကြမ်း