ကုမ္ပဏီသတင်း

  • LiTaO3 Wafer PIC — On-Chip Nonlinear Photonics အတွက် Low-Loss Lithium Tantalate-on-Insulator Waveguide

    LiTaO3 Wafer PIC — On-Chip Nonlinear Photonics အတွက် Low-Loss Lithium Tantalate-on-Insulator Waveguide

    အနှစ်ချုပ်- ကျွန်ုပ်တို့သည် 0.28 dB/cm2 ဆုံးရှုံးမှုနှင့် 1.1 million ring resonator quality factor ရှိသော 1550 nm insulator-based lithium tantalate waveguide ကို တီထွင်ခဲ့ပါသည်။ nonlinear photonics တွင် χ(3) nonlinearity အသုံးချမှုကို လေ့လာခဲ့ပါသည်။ lithium niobate ၏ အားသာချက်များ...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • XKH-ဗဟုသုတမျှဝေခြင်း-ဝေဖာအတုံးလေးများတုံးခြင်းနည်းပညာဆိုတာဘာလဲ။

    XKH-ဗဟုသုတမျှဝေခြင်း-ဝေဖာအတုံးလေးများတုံးခြင်းနည်းပညာဆိုတာဘာလဲ။

    ဝေဖာအတုံးလေးများ လှီးဖြတ်ခြင်းနည်းပညာသည် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်တွင် အရေးကြီးသောအဆင့်တစ်ခုအနေဖြင့် ချစ်ပ်စွမ်းဆောင်ရည်၊ ထွက်နှုန်းနှင့် ထုတ်လုပ်မှုကုန်ကျစရိတ်များနှင့် တိုက်ရိုက်ဆက်စပ်နေပါသည်။ #၀၁ ဝေဖာအတုံးလေးများ လှီးဖြတ်ခြင်း၏ နောက်ခံနှင့် အရေးပါမှု ၁.၁ ဝေဖာအတုံးလေးများ လှီးဖြတ်ခြင်း၏ အဓိပ္ပာယ်ဖွင့်ဆိုချက် ဝေဖာအတုံးလေးများ (scribe...)
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • လီသီယမ်တန်တလိတ်ပါးလွှာ (LTOI): မြန်နှုန်းမြင့် မော်ဂျူလာများအတွက် နောက်ထပ် ထိပ်တန်းပစ္စည်းလား။

    လီသီယမ်တန်တလိတ်ပါးလွှာ (LTOI): မြန်နှုန်းမြင့် မော်ဂျူလာများအတွက် နောက်ထပ် ထိပ်တန်းပစ္စည်းလား။

    ပါးလွှာသောဖလင်လီသီယမ်တန်တလိတ် (LTOI) ပစ္စည်းသည် ပေါင်းစပ်အလင်းပညာနယ်ပယ်တွင် သိသာထင်ရှားသောအင်အားသစ်တစ်ခုအဖြစ် ပေါ်ထွက်လာနေသည်။ ယခုနှစ်တွင် LTOI မော်ဂျူလာများဆိုင်ရာ အဆင့်မြင့်လုပ်ငန်းများစွာကို ထုတ်ဝေခဲ့ပြီး ရှန်ဟိုင်းတက္ကသိုလ်မှ ပါမောက္ခ Xin Ou မှ အရည်အသွေးမြင့် LTOI ဝေဖာများကို ပံ့ပိုးပေးခဲ့သည်။
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • ဝေဖာထုတ်လုပ်ရေးတွင် SPC စနစ်ကို နက်နက်ရှိုင်းရှိုင်းနားလည်ခြင်း

    ဝေဖာထုတ်လုပ်ရေးတွင် SPC စနစ်ကို နက်နက်ရှိုင်းရှိုင်းနားလည်ခြင်း

    SPC (စာရင်းအင်းလုပ်ငန်းစဉ်ထိန်းချုပ်မှု) သည် ဝေဖာထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်တွင် အရေးကြီးသောကိရိယာတစ်ခုဖြစ်ပြီး ထုတ်လုပ်မှုအဆင့်အမျိုးမျိုး၏ တည်ငြိမ်မှုကို စောင့်ကြည့်ခြင်း၊ ထိန်းချုပ်ခြင်းနှင့် တိုးတက်ကောင်းမွန်စေရန်အသုံးပြုသည်။ ၁။ SPC စနစ်အကျဉ်းချုပ် SPC သည် statistical process control ကို အသုံးပြုသောနည်းလမ်းတစ်ခုဖြစ်သည်...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • ဘာကြောင့် epitaxy ကို wafer substrate ပေါ်မှာ လုပ်ဆောင်ရတာလဲ။

    ဘာကြောင့် epitaxy ကို wafer substrate ပေါ်မှာ လုပ်ဆောင်ရတာလဲ။

    ဆီလီကွန်ဝေဖာအောက်ခံပေါ်တွင် ဆီလီကွန်အက်တမ်အလွှာတစ်ခု ထပ်မံစိုက်ပျိုးခြင်းသည် အားသာချက်များစွာရှိသည်- CMOS ဆီလီကွန်လုပ်ငန်းစဉ်များတွင်၊ ဝေဖာအောက်ခံပေါ်တွင် epitaxial growth (EPI) သည် အရေးကြီးသောလုပ်ငန်းစဉ်အဆင့်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ၁။ ပုံဆောင်ခဲအရည်အသွေးတိုးတက်ကောင်းမွန်လာခြင်း...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • ဝေဖာသန့်ရှင်းရေးအတွက် အခြေခံမူများ၊ လုပ်ငန်းစဉ်များ၊ နည်းလမ်းများနှင့် ပစ္စည်းကိရိယာများ

    ဝေဖာသန့်ရှင်းရေးအတွက် အခြေခံမူများ၊ လုပ်ငန်းစဉ်များ၊ နည်းလမ်းများနှင့် ပစ္စည်းကိရိယာများ

    အစိုသန့်ရှင်းရေး (အစိုသန့်ရှင်းရေး) သည် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အရေးကြီးသောအဆင့်များထဲမှ တစ်ခုဖြစ်ပြီး ဝေဖာ၏မျက်နှာပြင်မှ အညစ်အကြေးအမျိုးမျိုးကို ဖယ်ရှားရန် ရည်ရွယ်ပြီး နောက်ဆက်တွဲလုပ်ငန်းစဉ်အဆင့်များကို သန့်ရှင်းသောမျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် လုပ်ဆောင်နိုင်စေရန် ရည်ရွယ်ပါသည်။ ...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • ပုံဆောင်ခဲ မျက်နှာပြင်များနှင့် ပုံဆောင်ခဲ တိမ်းညွတ်မှုအကြား ဆက်နွယ်မှု။

    ပုံဆောင်ခဲ မျက်နှာပြင်များနှင့် ပုံဆောင်ခဲ တိမ်းညွတ်မှုအကြား ဆက်နွယ်မှု။

    ပုံဆောင်ခဲ မျက်နှာပြင်များနှင့် ပုံဆောင်ခဲ ဦးတည်ချက်သည် ပုံဆောင်ခဲပုံဆောင်ပညာတွင် အဓိက အယူအဆနှစ်ခုဖြစ်ပြီး ဆီလီကွန်အခြေခံ ပေါင်းစပ်ပတ်လမ်းနည်းပညာရှိ ပုံဆောင်ခဲဖွဲ့စည်းပုံနှင့် အနီးကပ်ဆက်စပ်နေသည်။ ၁။ ပုံဆောင်ခဲ ဦးတည်ချက်၏ အဓိပ္ပာယ်ဖွင့်ဆိုချက်နှင့် ဂုဏ်သတ္တိများ ပုံဆောင်ခဲ ဦးတည်ချက်သည် သတ်မှတ်ထားသော ဦးတည်ချက်တစ်ခုကို ကိုယ်စားပြုသည်...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ